2005年11月24～25日，中国一航北京航空制造工程研究所（以下简称我所）在北京主持召开了离子注入及沉积技术推广交流会，国防科工委科技发展质量司、中国一航科技发展部、410厂、航天三院31所、703所、航天八院149厂、航天六院41所、601所、608所、120厂、兵器59所、北京大学、安泰科技股份有限公司、宏正集团等单位共22位专家和代表参加了会议。

会上国防科工委和中国一航科技发展部的领导就成果推广的背景、意义等作了讲话。与会代表听取了专业技术人员关于高能束流加工技术、离子注入与沉积技术及其在航空、航天、武器及民用工业等领域应用的推广报告，参观了我所展室和高能束流加工技术国防科技重点实验室。与会代表围绕着离子注入及沉积技术进行了广泛交流，达成了共识。

离子注入及相关工艺在改善零件表面的抗蚀、耐磨等性能方面的巨大潜力已为人们所认识，在国际上已有一定规模的应用。我所从“九五”开始进行离子注入表面改性领域的工艺探索及相关技术研究。目前已形成完整的离子注入专业科研梯队，拥有自行研制“GYJ-80全方位离子注入设备”、由俄引进“Radug-5c脉冲离子束及弥散等离子体设备”各一套，具备实现全方位离子注入、增强沉积、等离子氮化等多种工艺手段及设备开发能力。针对国际上技术主流发展动向及应用需求，在保形注入、动态混合注入与沉积等方面已达到国内领先水平。在保形注入方面，从提高等离子体密度、缩小脉冲宽度入手，最大限度地缩小等离子体鞘层的尺寸，达到了较好的保形效果。在动态混合注入与沉积方面，通过保护电路将高压脉冲与低压直流进行有效复合，实现高压电源与低压直流同时输出功能，从而在工艺上真正实现了一个真空周期内的注入、沉积、动态混合注入与沉积等多种工艺手段。PIII&D处理温度低于300摄氏度，处理后零件尺寸及表面精度不变；显微硬度、耐磨、耐蚀性提高一倍以上；膜层结合性能较普通沉积工艺提高一倍以上。

本技术部分成果已获得国家发明专利一项，获得国防科技三等奖及中国一航科学技术进步二等奖各一项。另外已申报实用新型专利三项。该成果已成功应用于某型号内接头表面耐磨抗蚀层制备，某型号叶轮表面耐磨层制备，复合材料表面处理，精密刀具表面处理等。相信随着该技术应用范围的不断拓展，离子注入技术必将更好的服务于航空、航天、船舶、医药、化工及其它国防和民用领域。

与会专家及代表认为：离子注入技术作为国际新型技术，具有独特优点，有重要的技术推广价值。希望各方代表不断交流，加强合作，使离子注入技术能够在我国的国防建设和民用行业中发挥更大的作用。